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2、生产工艺过程比较复杂。特别是塔器设备，对产品的质量影响极为重要。为了确保一次**开车投产顺利，确保产品质量，在设备的安装过程中，对设备及管线等重要设备的清洗工作十分严谨。在清洗过程中，使每个环节质量都达成原则。
3、避免开车质量事故的发生。**地减少调试费用，必须做好工艺设备和工艺管道安装前的清洗解决。
4、针对不同的工艺规定、不同的设备材质以及不同的设备类型，清洗解决规定和达成的基本原则(规定达成无油、无水与无尘的三无规定)也不同。同时符合《脱脂工程施工及验收规范》和《工业设备化学清洗质量原则》并根据业主和成达公司的具体规定可分为普通清洗和干净清洗。多晶硅设备的清洗重要工艺为酸洗、脱脂、钝化、干燥等，其中最核心是脱脂工艺和干燥技术。
5、油脂和水对多晶硅的产品有巨大影响。因此在多晶硅设备的清洗中，以脱脂工艺和干燥工艺为要点。
1、重要清洗还原炉、氢化炉、设备、合成车间、还原氢化车间、精馏系统、中间罐、管道等重要设备。并且为了确保脱脂和干燥的质量，多晶硅设备清洗需要对单台设备进行单台清洗并验收后，再进行安装。二、污垢重要对多晶硅影响因素1、油脂：在多晶硅生产过程中，油分子对多晶硅的危害十分严重。实际证明，整个工艺系统几的油含量就可能造成多晶硅反映速度减慢，产量减少，甚至硅反映停止。
2、因此，多晶硅设备的脱脂工艺尤为重要。2、水分：水中含有大量的***离子，***离子对多晶硅的反映十分敏感。设备及系统干燥工艺很核心。3、***离子残留：水和其它溶液在设备表面残留的***离子对多晶硅影响十分大。
3、因此，在清洗后对设备进行纯水冲洗工艺十分重要。4、氧化物、灰尘其它杂质：其它污垢的存在，对多晶硅的生产影响也很大。因此，在设备清洗过程中，采用酸洗工艺对其它污垢进行清洗十分必要。三、国内大、中型化工生产装置清洗现状国外对设备、管道的清洗十分重视，有专门从事清洗的研究机构。
4、再国外，设计单位在设计化工工艺流程及规定时已经将清洗考虑了进去，并做了概算及投资。清洗方式也有单一的水力清洗发单调发展到化学清洗、机械清洗等。
5、世界各国对清洗行业的组织形式是多个多样的，从单个零件到整个装置的清洗，现有专业化学清洗公司，也有公司自行组织的清洗队伍。有的设备、管道及零部件需经常定时清洗，并且部分生产设备本身就装有固有的清洗装置，清洗技术的应用有了很大的进步。生产多晶硅的工艺较多，各个**生产厂家在开发新技术、进行技术改造的同时，通过对设备的清洗来减少能耗和确保多晶硅的产品质量。提高设备运转率，延长使用寿命，争取以最低的能耗，生产出更多的多晶硅产品。
